實驗室搭載整套半導體級高潔凈氣路與高精度流量控制系統(tǒng)，共設置 8 路獨立供氣通道，整套系統(tǒng)經(jīng)過專業(yè)管路優(yōu)化與壓力穩(wěn)壓設計，氣體輸送穩(wěn)定、流量調(diào)控精準，可嚴格匹配各類高要求精密科研實驗的用氣標準。平臺常備氬氣、氫氣、甲烷、乙烯、乙炔、氧氣、氮氣、氦氣等多種高純實驗氣體、氣源品質(zhì)可靠，能夠充分適配薄膜沉積、高溫材料燒結、氣相合成、不同氛圍下樣品退火等各類主流實驗工況，全面滿足半導體材料、低維材料、功能薄膜等方向的實驗用氣需求。

平臺同時配置 2 英寸、4 英寸兩種常用規(guī)格的管式爐設備，并配套集成高性能等離子源系統(tǒng)，整體硬件配置完備，設備運行穩(wěn)定，具備工藝拓展與適配能力。依托這套一體化設備組合，我們可為廣大科研人員提供多元化技術服務，涵蓋高質(zhì)量二維材料生長、不同氣氛環(huán)境下樣品退火處理、等離子體輔助加工等實驗項目，憑借成熟的設備條件與實操經(jīng)驗，有力支撐材料科學、凝聚態(tài)物理等領域的課題開展與技術研究。